В столице собираются выпускать уникальное оборудование для микросхем

Один из резидентов ОЭЗ "Технополис Москва" организовал первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нанометров. На планете самостоятельно создавать такую технику для производства микросхем могут в менее 10 странах.

Создание фотолитографа - важный шаг в переходе страны на свой выпуск микроэлектроники, соответственно технологической независимости РФ. Устройство собрано с привлечением белорусского завода, чей персонал имеет опыт в этой области.
Столичная установка не похожа на зарубежные. Здесь впервые для излучения использовалась ртутная лампа, а твердотельный лазер, у которого высокая мощность, энергоэффективность, долговечность, узкий спектр.

У оборудования уже есть первый заказчик, а специалисты ОЭЗ адаптируют его технологические процессы к производству потребителя.

В 2026 г. планируется закончить работу над фотолитографом с разрешением 130 нанометров.

Справка. В 2024 г. оборот высокотехнологичных производств города в 2 раза вырос за счет производств часов, печатных схем, коммуникационного, навигационного, периферийного оборудования, контрольно-измерительных приборов, ПК, элементов электронной техники.